工藝設計

根據某水泥廠情況，設計循環水量近10%作為旁濾處理量
，即100m³/h。

工藝流程說明：循xun環huan水shui電dian解jie係xi統tong安an裝zhuang在zai冷leng卻que塔ta旁pang的de循xun環huan水shui回hui水shui處chu，依yi靠kao回hui水shui壓ya力li進jin行xing過guo濾lv和he自zi動dong反fan衝chong洗xi，屬shu於yu較jiao節jie能neng的de一yi種zhong旁pang路lu安an裝zhuang方fang式shi。這zhe種zhong方fang式shi對dui回hui水shui壓ya力li有要求，一般要求大於0.2MPa。CWES電解殺菌除垢設備包括EST電解反應器、控製係統.

設備原理介紹

EST電解殺菌除垢的工作機理

EST電解殺菌除垢係統要求循環水流過EST反(fan)應(ying)室(shi)，以(yi)便(bian)去(qu)除(chu)適(shi)當(dang)的(de)鈣(gai)鎂(mei)離(li)子(zi)礦(kuang)物(wu)質(zhi)和(he)殺(sha)死(si)細(xi)菌(jun)。在(zai)反(fan)應(ying)室(shi)中(zhong)發(fa)生(sheng)的(de)這(zhe)種(zhong)實(shi)際(ji)的(de)化(hua)學(xue)反(fan)應(ying)
，不(bu)同(tong)於(yu)任(ren)何(he)一(yi)種(zhong)其(qi)他(ta)的(de)機(ji)械(xie)式(shi)和(he)電(dian)磁(ci)式(shi)的(de)處(chu)理(li)方(fang)式(shi)。

 陰極化學反應

通過電解，水中的礦物質沉澱出來並被去除，這就是CWES的工作原理。反應室中維持的工作電流大概為直流7～25安培。結果是，在陰極（反應室內壁）附近形成高濃度的氫氧根，這種升高的pH環境（pH大約為13），讓rang易yi結jie垢gou的de礦kuang物wu質zhi預yu先xian結jie垢gou，並bing從cong水shui中zhong析xi出chu。實shi際ji上shang，陰yin極ji附fu近jin局ju部bu的de高gao氫qing氧yang根gen濃nong度du形xing成cheng的de化hua學xue環huan境jing
，和he用yong石shi灰hui處chu理li形xing成cheng的de冷leng石shi灰hui軟ruan化hua環huan境jing類lei似si
，主zhu要yao用yong來lai去qu除chu水shui中zhong的de鈣gai
、鎂離子。

電流也將一部分的氯離子轉化成遊離氯，同時產生微量臭氧、氧自由基
、氫氧根自由基和雙氧水。這一係列產物提供了殺生效應，結合安培電流及局部高的和低的（陽極）pH區域，維持了CWES之外的一個事實上的消毒環境。

陽極化學反應

反應室本身是一個碳鋼製造的圓柱狀的容器。固定在碳鋼蓋子上有兩個陽極和一個電動刮刀。陽極柱直徑大約為1英寸，直伸到容器底部。電極用特殊鈦鎳氧化物製成
，以便耐受局部低pH環境。籃式塑料刮刀每次清洗時用來擦掉內壁預沉澱出來的礦物質。 

殺菌滅藻原理

由(you)上(shang)可(ke)知(zhi)，陰(yin)極(ji)和(he)陽(yang)極(ji)的(de)化(hua)學(xue)反(fan)應(ying)，配(pei)合(he)特(te)別(bie)的(de)流(liu)量(liang)設(she)計(ji)

，反(fan)複(fu)地(di)將(jiang)細(xi)菌(jun)暴(bao)露(lu)於(yu)破(po)壞(huai)性(xing)的(de)環(huan)境(jing)中(zhong)，每(mei)次(ci)流(liu)經(jing)反(fan)應(ying)室(shi)就(jiu)會(hui)暴(bao)露(lu)在(zai)極(ji)高(gao)和(he)極(ji)低(di)的(de)pH

、電流、和其它幾種氧化消毒環境之中。

l CWES環境:

CWES以旁流的方式安裝，也就是說，大約10%的冷卻水取出來經過CWES處理後再回到係統中去。旁流量設計時基於係統中所有的冷卻水每天經過CWES係統大約2次。因此
，同樣地，每個來自空氣中或者水中懸浮物裏的細菌，都會在24小時之內經過苛刻的CWES環境大約2次。

l pH值作用:

微生物對多種突然的環境變化很敏感。其中一個尤其敏感的參數是pH值（水的酸度或者堿度變化）。實際上
，水的pH值zhi哪na怕pa簡jian單dan地di改gai變bian很hen少shao幾ji個ge單dan位wei
，就jiu能neng夠gou事shi實shi上shang消xiao除chu某mou些xie微wei生sheng物wu的de生sheng長chang。如ru前qian所suo述shu，陰yin極ji附fu近jin會hui形xing成cheng高gao濃nong度du的de氫qing氧yang根gen，從cong而er在zai反fan應ying室shi內nei壁bi附fu近jin造zao成cheng極ji高gao的de堿jian性xing環huan境jing，pH值達到13。相反，在陽極附近，一直維持著低pH的酸性環境。

由於寄生在冷卻水懸浮物上麵的細菌適應了輕微弱堿性環境，pH值在8.5到9.0之間。這個pH值是使用CWES處理冷卻循環水時控製的範圍。於是
，因為冷卻水進入和離開反應室，不斷地循環就會反複將細菌置於低pH值區和高pH值區。結果就是細菌每次通過反應室時都經曆了多次變化的pH值環境。

l 電流作用:

CWES在反應室中維持大約10~25安培30~50伏特的直流電流。因此，細菌每次經過反應室時都會暴露在該電流中，會電解而死。

l 產生氯氣、臭氧和氧自由基:

由於陰極發生的化學反應，流經反應室的氯離子中約10%~30%的氯離子轉化成遊離氯，因此循環水中餘氯維持一個穩定的數量，約0.1~0.5ppm。這(zhe)個(ge)餘(yu)氯(lv)
，就(jiu)像(xiang)向(xiang)水(shui)中(zhong)添(tian)加(jia)漂(piao)白(bai)粉(fen)一(yi)樣(yang)，通(tong)過(guo)氧(yang)化(hua)作(zuo)用(yong)殺(sha)死(si)細(xi)菌(jun)。同(tong)時(shi)，在(zai)陰(yin)極(ji)還(hai)產(chan)生(sheng)了(le)臭(chou)氧(yang)和(he)氧(yang)自(zi)由(you)基(ji)，這(zhe)兩(liang)個(ge)氧(yang)化(hua)性(xing)物(wu)質(zhi)，和(he)氯(lv)類(lei)似(si)，具(ju)有(you)殺(sha)生(sheng)劑(ji)的(de)作(zuo)用(yong)。

工作過程

電解除垢器工作時
，進水閥門、出水閥門打開，原水從進水閥門進入，在反應室內進行電化學作用，讓易結垢的礦物質預先結垢，並從水中析出，並附著在反應室內壁（陰極）上。因反應有微量氫氣產生，該水垢為疏鬆的水垢。

當內壁上的水垢積累到一定的量需要對其進行清洗，清洗周期和清洗時間取決於每天要去除的礦物質量。在PLC控製係統上可以設置每天需要清洗的次數。

每次清洗開始時，三個控製閥控製著流入EST內的水的方向。清洗的第一步，進出口閥門關閉，EST底(di)部(bu)的(de)排(pai)汙(wu)閥(fa)門(men)打(da)開(kai)。刮(gua)刀(dao)在(zai)電(dian)機(ji)的(de)帶(dai)動(dong)下(xia)在(zai)反(fan)應(ying)室(shi)內(nei)旋(xuan)轉(zhuan)運(yun)動(dong)
，刮(gua)掉(diao)內(nei)壁(bi)軟(ruan)的(de)預(yu)先(xian)沉(chen)澱(dian)出(chu)來(lai)的(de)水(shui)垢(gou)
，並(bing)和(he)衝(chong)洗(xi)水(shui)一(yi)起(qi)從(cong)底(di)部(bu)排(pai)出(chu)。第(di)二(er)步(bu)，進(jin)水(shui)閥(fa)門(men)打(da)開(kai)
，以(yi)便(bian)衝(chong)洗(xi)排(pai)放(fang)區(qu)域(yu)
，衝(chong)洗(xi)2分鍾。第三步，排汙閥門關閉
，刮刀停止運動

，出水閥門打開EST重新工作。